结构与成分分析

X射线光电子能谱仪

联系人:刘园园

联系邮箱:liuyy@fudan.edu.cn

放置地点:江湾校区二号交叉学科楼负一楼材料能源学院共享仪器平台02室

基础信息

  • 设备型号:PHI GENSIS 500

  • 设备厂家:爱发科费恩斯(ULVAC-PHI)

  • 主要规格及技术指标:进样室真空度:1.2×10-6 Pa;样品在进样室导入分析室的时间≤5 min;分析腔室最佳真空度≤6.7×10-8 Pa。X射线聚焦束斑直径:5.0 μm~400 μm连续可调,调节步长≤0.5 μm。全自动五轴样品台可实现X、Y、Z方向的移动、倾斜和旋转。分析室内有多个样品停放台,可以连续自动测量。X移动范围:≥75 mm,Y移动范围:≥75 mm,Z移动范围:≥20 mm。能量分辨率(正常工作条件下):对Ag3d5/2峰,半峰宽(FWHM)≤0.48 eV。

  • 主要功能及特色:单色化XPS、微区XPS、离子散射谱ISS、反射电子能量损失谱REELS、紫外光电子能谱UPS、角分辨XPS、俄歇电子能谱AES、Al-Mg双阳极和冷热台等。

  • 收费标准: